ГОСТ 25196-82

Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

Обозначение:ГОСТ 25196-82
Статус:действующий
Название рус.:Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования
Название англ.:Vacuum equipment. Apparatus for ion implantation. General technical requirements
Дата актуализации текста:27.10.2010
Дата актуализации описания:27.10.2010
Дата введения в действие:01.07.1983
Область и условия применения:Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,666 57х10 в ст. минус 27 до 217,534 67х10 в ст. минус 27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6х10 в ст. минус 15 до 1,6х10 в ст. минус 13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники


ГОСТ 25196-82
ГОСТ 25196-82
ГОСТ 25196-82

 


 
© Информационно-справочная онлайн система "Технорма.RU" , 2010.
Бесплатный круглосуточный доступ к любым документам системы.

При полном или частичном использовании любой информации активная гиперссылка на Tehnorma.RU обязательна.


Внимание! Все документы, размещенные на этом сайте, не являются их официальным изданием.
 
Яндекс цитирования